Amsterdam. Der niederländische Chiphersteller ASML hat einen ersten Test bei der Entwicklung seiner neuesten Generation von Maschinen zur Herstellung von Computerchips absolviert. Am Mittwoch bestätigte der niederländische Konzern entsprechende Aussagen der Entwicklungschefin des US-Halbleiterkonzerns Intel bei einer Branchenkonferenz.
Intel ist der erste Abnehmer des High NA EUV-Lithographiesystems, sicherte sich bereits sechs der ersten zehn Anlagen, wie die Neue Züricher Zeitung Mitte des Monats berichtet hatte. Die restlichen vier sollen demnach an den südkoreanischen Samsung-Konzern gehen. Chipgigant und derzeitiger Weltmarktführer TSMC wolle erst ab 2030 den Einstieg in die High NA EUV-Technologie starten, so die Neue Züricher Zeitung.
»High NA« steht für High Numerical Aperture, englisch für hohe Numerische Apertur, »EUV« für extrem ultra-violettes Licht). Mit den neuen Maschinen ist es möglich, feinere Schaltkreise per Laser in Siliziumscheiben zu brennen als dies bisher der Fall war. Computerchips können dadurch kleiner und leistungsfähiger produziert werden. Die Nachrichtenagentur Reuters beschrieb 300 bis 400 Millionen US-Dollar teuren Apparate als »so groß wie ein Doppeldecker-Bus«. (Reuters/jW)